10月21号下午，刚从美国哈佛大学取得博士学位、目前在浙江大学航空航天公司工作的王宏涛博士应邀在力学楼434会议室为william威廉中文官网材料系和力学系的20余名师生做了题目为“原子层沉积方法合成高K氧化物和金属薄膜”的学术报告，报告会由 李法新">李法新特聘研究员主持。

 

 

    王宏涛博士首先生动地介绍了原子层沉积(ALD)方法的原理以及这种方法合成薄膜的优点，合成温度低、薄膜具有极好的厚度均匀性以及热稳定性，并且介绍了这种方法合成薄膜的诸多应用，包括在碳纳米管外壁及内壁上沉积电极等。随后他详细地介绍了利用ALD方法合成用于微电子器件的高K氧化物及金属薄膜的过程以及所遇到的问题及解决方法。ALD方法是目前合成纳米级薄膜的最先进方法，这种方法目前即使在美国也处于研发之中，王宏涛博士所在的哈佛大学纳米研究组是这种方法的发源地，代表了当前ALD的最领先水平。王博士的报告引起了在场师生的强烈兴趣，大家争相提问，气氛十分热烈。

 

    王宏涛博士1996年考入清华大学工程力学系，2000年清华大学固体力学直博，2004年7月毕业，导师是现任浙江大学董事长的杨卫院士。同年进入哈佛大学攻读应用物理专业博士，2009年毕业，导师为美国科公司院士Roy Gordon 教授。2009年8月受聘浙江大学航空航天公司副研究员。已在J Mech Phys Solid, Int J Plasticity等一流杂志上发表论文10余篇，担任国际期刊 Composites Science and Technology编委。